超細氧化鋁漿料研磨分散機，氧化鋁漿料研磨分散機，氧化鋁功能材料研磨分散機，超細氧化鋁粉體分散技術，多功能超細氧化物漿料分散機

IKN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

德國分散機剪切分散機各種工作頭的種類及相應線速度相同，實驗過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整，從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到zui低。

氧化鋁具有硬度高、化學穩定性好等優點，已被廣泛應用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

氧化鋁的分散問題

近年來，已超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復合材料受到人們的廣泛關注。但超細氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩定狀態，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體*的性能，因此超細氧化鋁粉體的分散，是超細氧化鋁粉體走向實用化的關鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發生團聚，出現絮凝，分層等現象，破壞漿料的分散穩定性。為此漿料的分散穩定性成為人們研究的重點。影響穩定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設備的選擇、粉體的粒度及表面性質、PH值、溫度等。

當物料工藝確定后，影響分散穩定性的wei一因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩定性越高。這種情況下要提高分散穩定性就必須選用高品質的分散設備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，*CMSD2000系列研磨分散機，*的結構，膠體磨+分散機一體化設備，14000rpm超高轉速，效果好、效率高。

石墨烯研磨分散設備采用上海IKN技術，*創意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。

IKN研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續運行。而普通乳化機很難做到連續長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉速的運行。通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力。

CMSD2000/4研磨分散機的技術優勢主要體現在以下幾個方面:

1.轉速相較其它廠家2900轉左右高出三倍

CMSD2000/4為立式分體式結構，通過皮帶傳動，并實現加速，加速比為3：1即正常50HZ頻率下轉速為9000RPM，外加變頻可達14000RPM。CMSD2000/4分散頭直徑為55mm。

由此可得線速度（V=3.14*D（轉子直徑）*n/60）

V1= 3.14*0.055*9000/60 =24M/S

V2=3.14*0.055*14000/60=40M/S

2.磨頭結構更經密并有du特設計，使之分散作用力更大，效果更好。

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-轉子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 分散頭的線速率

– 轉子-定子間距

結合1，2中的數據可得：

F1=24/0.7*1000=32857S-1

F2=40/0.7*1000=57142S-1

普通轉速為3000RPM的機型大約在14293~21544S-1

3.德國進口雙端面機械密封擁有du特結構和特殊材質保證高速運轉和長使用壽命

滿足以下條件使得機械密封的使用壽命更長：

- 可允許的壓力比率

- 充份的冷卻和濕度

- 材料的合適搭配

該密封件配有壓力平衡罐，保證機封上下端面受力平衡，同時可通過自身結構的泵環效應和熱虹吸效應實現冷卻水的自動循環。該循環系統為du立系統，與外界無接觸，平衡罐內冷卻液可選純化水或合適的溶劑。通過換熱管實現熱交換。

4.CMSD2000/4研磨分散機與大型工業管線式量產機型配置相同。ge種工作頭的種類及相應線速度相同，實驗過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整，從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到zui低。

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