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納米超高速乳化機
納米超高速乳化機,對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。從而使zui終的乳化液體系不穩定,容易沉降分層。面對這種情況,CIK研發出新型設備的納米乳化機,應對納米物質的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用CIK研磨分散機進行分散處理,*。
上海切可自主研發生產的納米級乳化機,具有高轉速、低能耗、低噪音、高壽命等優勢,經過CIK全體研發生產部員工的不懈努力,終于解決了乳化機的提速問題。市場上一般使用的乳化機由于定轉子精度以及機械密封的原因,轉速zui高只能達到2910轉,而CIK研發的納米級乳化機將轉速提高到9000轉,剪切力更強,分散乳化效果更佳。
納米超高速乳化機的特點
①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。
②該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合。
③三級乳化機由定、轉子系統所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
CIK高剪切分散機,高速分散機,高剪切分散機德國高速分散機,超高速分散機分散指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質中的分散體系。在分散過程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨或高剪切分散。用CIK高剪切分散機輸入大量能量,可實現我們的目的。
如:CMC,膠質,穩定劑,增稠劑,農藥,其他物質的懸浮液,藥丸包衣,藥物解聚,涂料分散,唇膏,芥末混合物,催化劑,消光劑,顏料,石墨,油漆涂料,氧化鋁,復合肥料,油墨,填充劑,除草劑,殺菌劑,炭黑,*,磨光劑,金屬氧化物,納米材料,團聚粉末。
CIK高剪切分散機影響分散結果的因素有以下幾點
1分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
2分散頭的剪切速率(越大,效果越好)
3分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
CIK高剪切分散機有多種規格如CR2000,CRS2000,CRX2000高剪切分散機
產品說明:德國CIK制造,百年歷史,享譽。該系列產品真正CIP/SIP功能,符合美國3A認證。機器加工實施嚴格的質量控制,各部件經久耐用,運行穩定。在諸多跨國公司贏得*贊譽,如巴斯夫,拜爾,德固賽,邱博,杜邦,英威達,羅地亞,羅蓋特,歐萊雅,寶潔,高露潔,雀巢,達能,喜力,GE,BP,SHELL,中石化,中石油,中科院,等世界*公司。
CIK2000系列在線設備的其他優勢:
·低噪聲標準
·提高泵送、混合和分散效果
·通過皮帶驅動,調速簡便。
·立式設計,可自排空物料
·由于集裝式設計,采用抗腐蝕材料的密封件,保養維修簡單。
·高品質表面光潔度符合FDA/EHEDG的衛生要求
·所有設備都有CIP/SIP能力
·占地面積小
·可以根據客戶要求提供防爆性能(ATEX)
·可以根據客戶要求定制高品質處理的表面和特殊材料
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
–剪切速率(s-1)=v速率(m/s)
g定-轉子間距(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
–轉子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。
CIK定-轉子的間距范圍為0.2~0.4mm
速率V=3.14XD(轉子直徑)X轉速RPM/60
高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業特殊要求,切可公司在CR2000系列的基礎上又開發出CRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過14000rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。
高剪切均質分散機應用于:
混懸液
化妝品
色漿
顏料洗滌劑
漿糊
鹽溶液
催化劑
涂漆
聚合物乳化液
農藥(除草劑殺蟲劑)高剪切均質分散機特別應用于:
疫苗
細胞破碎
膠體溶液
金屬氧化物懸浮液
墨水
印刷涂料
色素色漿漿料
*混懸液
*混懸液
*混懸液
*混懸液
*混懸液等等
上海切可自主研發生產的納米級乳化機,具有高轉速、低能耗、低噪音、高壽命等優勢,經過CIK全體研發生產部員工的不懈努力,終于解決了乳化機的提速問題。市場上一般使用的乳化機由于定轉子精度以及機械密封的原因,轉速zui高只能達到2910轉,而CIK研發的納米級乳化機將轉速提高到9000轉,剪切力更強,分散乳化效果更佳。
納米超高速乳化機的特點
①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。
②該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合。
③三級乳化機由定、轉子系統所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
CIK高剪切分散機,高速分散機,高剪切分散機德國高速分散機,超高速分散機分散指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質中的分散體系。在分散過程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨或高剪切分散。用CIK高剪切分散機輸入大量能量,可實現我們的目的。
如:CMC,膠質,穩定劑,增稠劑,農藥,其他物質的懸浮液,藥丸包衣,藥物解聚,涂料分散,唇膏,芥末混合物,催化劑,消光劑,顏料,石墨,油漆涂料,氧化鋁,復合肥料,油墨,填充劑,除草劑,殺菌劑,炭黑,*,磨光劑,金屬氧化物,納米材料,團聚粉末。
CIK高剪切分散機影響分散結果的因素有以下幾點
1分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
2分散頭的剪切速率(越大,效果越好)
3分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
CIK高剪切分散機有多種規格如CR2000,CRS2000,CRX2000高剪切分散機
產品說明:德國CIK制造,百年歷史,享譽。該系列產品真正CIP/SIP功能,符合美國3A認證。機器加工實施嚴格的質量控制,各部件經久耐用,運行穩定。在諸多跨國公司贏得*贊譽,如巴斯夫,拜爾,德固賽,邱博,杜邦,英威達,羅地亞,羅蓋特,歐萊雅,寶潔,高露潔,雀巢,達能,喜力,GE,BP,SHELL,中石化,中石油,中科院,等世界*公司。
CIK2000系列在線設備的其他優勢:
·低噪聲標準
·提高泵送、混合和分散效果
·通過皮帶驅動,調速簡便。
·立式設計,可自排空物料
·由于集裝式設計,采用抗腐蝕材料的密封件,保養維修簡單。
·高品質表面光潔度符合FDA/EHEDG的衛生要求
·所有設備都有CIP/SIP能力
·占地面積小
·可以根據客戶要求提供防爆性能(ATEX)
·可以根據客戶要求定制高品質處理的表面和特殊材料
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
–剪切速率(s-1)=v速率(m/s)
g定-轉子間距(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
–轉子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。
CIK定-轉子的間距范圍為0.2~0.4mm
速率V=3.14XD(轉子直徑)X轉速RPM/60
高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業特殊要求,切可公司在CR2000系列的基礎上又開發出CRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過14000rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。
高剪切均質分散機應用于:
混懸液
化妝品
色漿
顏料洗滌劑
漿糊
鹽溶液
催化劑
涂漆
聚合物乳化液
農藥(除草劑殺蟲劑)高剪切均質分散機特別應用于:
疫苗
細胞破碎
膠體溶液
金屬氧化物懸浮液
墨水
印刷涂料
色素色漿漿料
*混懸液
*混懸液
*混懸液
*混懸液
*混懸液等等
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