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HPD-100C實驗型設備 低氣壓氣輝光放電處理機 輝光等離子
HPD-2400生產型設備 次大氣輝光放電處理機 輝光等離子
規格:
1. 型號：HPD-2400；
2. 電源：三相AC380V（±10%）
3. 功率：1000VA；
4. 電極尺寸：500mm×450mm；
5. 設備尺寸：720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 設備重量：180kg
7. 腔體壓力：500~3000Pa
用途：
1. 酶標板、細菌計數培養皿、細胞培養皿、組織培養皿的親水處理。經過等離子體處理后細菌培養皿表面由疏水變為親水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面*被水潤濕。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
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