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昆山瑞塞奇精密儀器有限公司
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超高分辨場發射掃描電子顯微鏡Regulus8100上市時間：2017年7月全新發布的日立新型場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）全新品牌 Regulus系列，機型包括作為SU8…
超高分辨場發射掃描電子顯微鏡Regulus8100
上市時間：2017年7月
全新發布的日立新型場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）全新品牌 "Regulus®系列"，機型包括作為SU8010的后續機型開發的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升級版"Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4個機型，均實現了分辨率和操作性的強化。"Regulus系列" 電子光學系統進行了化處理，使得著陸電壓在1kV時分辨率較前代機型提高了約20％。"Regulus8220/8230/8240"達到0.9nm，"Regulus8100"為1.1 nm的分辨率。另外，低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節放大，并獲得高質量的圖片。放大倍率也由之前的100萬倍提高到了200萬倍。除此之外，為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發揮出高性能，還對用戶輔助工能進行了強化，如信號檢測系統的操作輔助功能，維護輔助功能等。
"Regulus系列"是日立的FE-SEM的全新品牌，包括作為SU8010的后續機型開發的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升級 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4個機型，均實現了分辨率和操作性的強化。
掃描電子顯微鏡（SEM）被廣泛應用于納米技術，半導體?電子行業，生命科學，材料科學等領域的材料結構觀察。近年來，新一代的電子器件應用中受到廣泛期待的新型碳材料，高分子材料，復合材料等的研究作為科學技術的中堅技術，在范圍內受到熱捧。掃描電子顯微鏡廣泛用于這些材料的觀察?評價，但僅僅具有超高分辨率還遠遠不夠。還要求能在低加速電壓下對表面細微結構的觀察和高靈敏度的元素分析。除此之外，在長期的研究過程中還追求電鏡的性能的持續穩定和信賴性。
本次發布的新品牌 "Regulus系列" 電子光學系統進行了優化處理，使得著陸電壓在1kV時分辨率較前代機型提高了約20％。"Regulus8220/8230/8240"達到0.9nm，"Regulus8100"為1.1 nm的分辨率。另外，低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節放大，并獲得高質量的圖片。放大倍率也由之前的100萬倍提高到了200萬倍。
除此之外，為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發揮出高性能，還對用戶輔助工能進行了強化，如信號檢測系統的操作輔助功能，維護輔助功能等。
主要參數
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*1 Regulus8240/8230/8220
*2 減速模式觀察
*3 127 mm × 95 mm 視野的畫面倍率
*4 5軸馬達臺為選配項
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