膜層各項性能提高,能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專注研發,通過*的陰極電弧離子和非平衡磁控系統,開發出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統,使鍍膜膜層附著力強致密度、從復度*性好等特點,解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不*等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的*、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、ZrN、TiNC膠各類金鋼石膜(DLC)。
1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論,把陰極表面磁場擴展到接近工作表面,提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。
2、電弧等離子體蒸發源性能可靠,在優化陰極及磁場結構鍍膜時可在30A電流下工作,鍍膜膜層和基底界面產生原子擴散,又具有離子束輔助沉積的特點。
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