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BE-T500膜厚測試儀

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更新時間:2024-10-26 17:14:54瀏覽次數:29次

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產品簡介

紅外厚度測量儀采用光學干涉原理、非接觸測量折射率較大或者厚度較大的樣品,比如硅晶圓、鈮酸鋰、鉭酸鋰等,測量分辨率達到納米量級。該儀器具有測量迅速、操作簡單、結果穩定、用戶使用界面易于操作等特點,是目前市場上性價比優良的厚度測量儀之一。可用于離線或在線厚度的實時測量。

詳細介紹

產品簡介

 紅外厚度測量儀采用光學干涉原理、非接觸測量折射率較大或者厚度較大的樣品,比如硅晶圓、鈮酸鋰、鉭酸鋰等,測量分辨率達到納米量級。該儀器具有測量迅速、操作簡單、結果穩定、用戶使用界面易于操作等特點,是目前市場上性價比優良的厚度測量儀之一。可用于離線或在線厚度的實時測量。 

產品特點

  • 全光學非接觸式測量,無須破壞樣品或做前處理

  • 高速、高靈敏度、高精確度、高重復性測量

  • 采用近紅外光(NIR),每個波長的測量功率更高

  • 雙光路設計,以增加探測光路強度

  •  包含顯微成像系統,方便準確定位測量部位

  • 可以測量玻璃蓋板下面硅基的厚度

  • 高動態范圍,對表面缺陷和粗糙度不敏感,可測量不規則表面

  • 能夠在濕法蝕刻過程中進行原位測量


技術參數 

  • 測量類型 含顯微成像系統 不含

  • 波長范圍 950-1100nm

  • 分辨率/波長間隔 0.12nm/0.04nm

  • 探測器 Toshiba,3648 Pixels CCD

  • 積分時間 4ms-60s

  • 信噪比 優于 300:1(飽和時)

  • 可測量厚度(n=3.5) 5µm-500µm

  • 可測量厚度(n=1.5) 10µm-1400µm

  • 使用光源 近紅外

  • 分辨率 1nm

  • 準確度 小于±0.5%或者 0.5µm(取較大值)

  • 重復性 小于±0.1%或者 0.1µm(取較大值)

  • 測量模式 反射法

  • 入射角度 90°

  • 測試材料 硅晶圓等

  • 工作距離 約為 25mm(物鏡前端至樣品表面)

  • 測量視野 小于 500µm

  • 測量時間 小于 50ms

  • 數據通信接口 USB2.0

  • 電源 AC220V±10%/50Hz±0.1%

  • 尺寸 250x 90x 280mm(寬 x 高 x 深)

  • 操作系統 Windows7/Windows10


設備支持定制,詳細資料請聯系營銷人員獲取。



關鍵詞:成像系統
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